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オスミウムコーター（TEM試料作製装置群）
- メーカー名
- 株式会社真空デバイス
- 型番
- HPC-1SW
- 仕様
- ・蒸着方式: 2極DCグロー放電スパッタ
・ターゲット: オスミウム
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 電子顕微鏡ユニット
LC-MS (OE480)
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック
- 型番
- Orbitrap Exploris 480
- 仕様
- ・ 質量範囲：40～6,000 m/z
・ 質量分解能：480,000 at 200 m/z
・ 質量精度：3 ppm以下(外標準法)、1 ppm以下(内標準法)
・ スキャンモード：Full Scan、t-SIM、DDA TopN、DDA TopTime、DIA、BoxCar、t-MS2 (PRM)、AIF
・ 送液範囲：1 nL/min～100 µL/ min
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業9,900円/時間
- 中小企業16,500円/時間
- 大企業33,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- バイオ分析ユニット
分光エリプソメーター [UNECS-2000A]
- メーカー名
- アルバック
- 型番
- UNECS-2000A
- 仕様
- ・光源：ハロゲンランプ
・波長範囲：530～750 nm
・スポット径：1mm
・入射角：70°固定
・試料サイズ：最大φ200mm
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
低ダメージ精密エッチング装置 [Spica #2]
- メーカー名
- 住友精密工業(株)
- 型番
- Spica
- 仕様
- プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
プロセスガス:Cl2, SiCl4, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃～30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
低ダメージ精密エッチング装置 [Spica #1]
- メーカー名
- 住友精密工業(株)
- 型番
- Spica
- 仕様
- プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
プロセスガス:CHF3, CF4, C4F8, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃～30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS]
- メーカー名
- 日本電子
- 型番
- JBX-8100FS
- 仕様
- ・最高加速電圧：200kV
・クロック周波数：125MHz
・12カセット自動搬送
・試料サイズ：最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業16,500円/時間
- 中小企業27,500円/時間
- 大企業55,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子ビーム描画装置 [ELS-F125]
- メーカー名
- (株)エリオニクス
- 型番
- ELS-F125
- 仕様
- ・電子銃 ZrO/W熱電界放射型
・最大加速電圧 125kV (25kVステップで可変)
・フィールドつなぎ精度：25nm以下 (500um フィールド)
・重ね合わせ精度：30nm以下 (500um フィールド)
・試料サイズ 最大φ6インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業16,500円/時間
- 中小企業27,500円/時間
- 大企業55,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- メーカー名
- 株式会社 エリオニクス
- 型番
- ELS-BODEN
- 仕様
- 加速電圧：100kV
基板サイズ：最大8インチ
フィールドサイズ：1mm
ビーム電流：100pA～10nA
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業9,900円/時間
- 中小企業16,500円/時間
- 大企業33,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
レーザー描画装置 [DWL66+]
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ HEIDELBERG INSTRUMENT
- 型番
- DWL66+
- 仕様
- ・光源：375nm 半導体レーザー (70mW)
・描画モード：ラスタースキャン描画、ベクターモード描画
・解像モード：0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm
・最大試料サイズ：8インチ角
・その他：グレースケール描画、重ね合わせ描画
【特徴】・高解像度フォトリソグラフィ ・高精細グレースケール描画
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ
- 型番
- DL-1000 / NC2P
- 仕様
- ・光源 405nm LD（h線）
・照度：10W/cm2
・位置決め精度：500nm以下
・重ね合わせ精度：500nm以下
・試料サイズ 最大8インチ角
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
"千現（つくば）"で検索した結果 167件