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液体クロマトグラフ質量分析計(LC-MS)
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック
- 型番
- Orbitrap Exploris 480
- 仕様
- ・ 質量範囲:40~6,000 m/z
・ 質量分解能:480,000 at 200 m/z
・ 質量精度:3 ppm以下(外標準法)、1 ppm以下(内標準法)
・ スキャンモード:Full Scan、t-SIM、DDA TopN、DDA TopTime、DIA、BoxCar、t-MS2 (PRM)、AIF
・ 送液範囲:1 nL/min~100 µL/ min
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業9,000円/時間
- 中小企業15,000円/時間
- 大企業30,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- バイオ分析ユニット
分光エリプソメーター [UNECS-2000A]
- メーカー名
- アルバック
- 型番
- UNECS-2000A
- 仕様
- ・光源:ハロゲンランプ
・波長範囲:530~750 nm
・スポット径:1mm
・入射角:70°固定
・試料サイズ:最大φ200mm
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
低ダメージ精密エッチング装置 [Spica #2]
- メーカー名
- 住友精密工業(株)
- 型番
- Spica
- 仕様
- プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
プロセスガス:Cl2, SiCl4, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃~30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
低ダメージ精密エッチング装置 [Spica #1]
- メーカー名
- 住友精密工業(株)
- 型番
- Spica
- 仕様
- プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
プロセスガス:CHF3, CF4, C4F8, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃~30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS]
- メーカー名
- 日本電子
- 型番
- JBX-8100FS
- 仕様
- ・最高加速電圧:200kV
・クロック周波数:125MHz
・12カセット自動搬送
・試料サイズ:最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業15,000円/時間
- 中小企業25,000円/時間
- 大企業50,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子ビーム描画装置 [ELS-F125]
- メーカー名
- (株)エリオニクス
- 型番
- ELS-F125
- 仕様
- ・電子銃 ZrO/W熱電界放射型
・最大加速電圧 125kV (25kVステップで可変)
・フィールドつなぎ精度:25nm以下 (500um フィールド)
・重ね合わせ精度:30nm以下 (500um フィールド)
・試料サイズ 最大φ6インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業15,000円/時間
- 中小企業25,000円/時間
- 大企業50,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- メーカー名
- 株式会社 エリオニクス
- 型番
- ELS-BODEN
- 仕様
- 加速電圧:100kV
基板サイズ:最大8インチ
フィールドサイズ:1mm
ビーム電流:100pA~10nA
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業9,000円/時間
- 中小企業15,000円/時間
- 大企業30,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
レーザー描画装置 [DWL66+]
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ HEIDELBERG INSTRUMENT
- 型番
- DWL66+
- 仕様
- ・光源:375nm 半導体レーザー (70mW)
・描画モード:ラスタースキャン描画、ベクターモード描画
・解像モード:0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm
・最大試料サイズ:8インチ角
・その他:グレースケール描画、重ね合わせ描画
【特徴】・高解像度フォトリソグラフィ ・高精細グレースケール描画
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクレス露光装置 [DL-1000]
- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ
- 型番
- DL-1000
- 仕様
- ・光源 405nm半導体レーザー(h線)
・照度 300mW/cm2
・位置決め精度 ±1um以下
・重ね合わせ精度 ±1um以下
・試料サイズ 最大4インチ角
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ
- 型番
- DL-1000 / NC2P
- 仕様
- ・光源 405nm LD(h線)
・照度:10W/cm2
・位置決め精度:500nm以下
・重ね合わせ精度:500nm以下
・試料サイズ 最大8インチ角
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
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