ユーザースクール

レーザー描画・マスクレス露光技術 [DWL66+ & MLA150]

プログラム概要

対象	中級者
講習形式	座学と実習
開催日	2025年10月31日(金) 10月～12月の間に開催します
時間	10:00-16:00
定員	3名
開催場所	千現地区
内容	レーザー描画及びマスクレス露光技術に関する実習を行います。フォトリソグラフィプロセスの経験がある方を対象とします（装置問わず）。レーザー描画とマスクレス露光の違いやそれぞれの特徴についてレクチャーします。