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イオンビームミリング複合装置 [16IBE-NIMS_SS]
- メーカー名
- 伯東
- 型番
- 16IBE-NIMS_SS
- 仕様
- ・プラズマ励起方式：直流放電型（カウフマン型）
・イオンビーム電圧：100-1000V
・イオンビーム電流：800mA
・プロセスガス：Ar
・グリッド径：φ16cm
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：RFスパッタ機構装備、SIMS検出器装備
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
蒸気二流体洗浄リフトオフ装置 [SSM101]
- メーカー名
- HUGパワー
- 型番
- SSM101
- 仕様
- 【性能・仕様】
・用途：基板洗浄、リフトオフ
・手法：蒸気二流体超音速噴射
・溶液：純水
・乾燥：スピン乾燥、N2ブロー
・最大試料サイズ：φ6inch
【特徴】
・蒸気二流体による洗浄・リフトオフを行う装置。
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
FE-SEM+EDX [JSM-IT800]
- メーカー名
- 日本電子株式会社
- 型番
- JSM-IT800
- 仕様
- 【性能・仕様】
・加速電圧：0.01～30kV
・倍率：50～200万倍
・分解能：0.6nm(15kV),1.5nm(1kV)
・検出器：SED, UID
・最大試料サイズ：6インチφ
・EDX：JEOL製EX-74710U1L4Q
【特徴】
・低真空SEM対応
・EB描画パターンデータ読込可能
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
誘導結合プラズマ発光分光分析装置（マルチ型・デュアルビュー、Agilent5800、千現）
- メーカー名
- アジレント・テクノロジー株式会社(Agilent Technologies Japan, Ltd.)
- 型番
- Agilent5800
- 仕様
- 【性能・仕様】
1.プラズマ観測方向；軸方向と横方向に切り替え可能
2.分光器：エシェルクロス分散ポリクロメータ
波長範囲：167～785nm
Ar/N2パージシステム
3.検出器：CCD検出器
4.ICP部
プラズマガス：Ar
周波数：27MHz
RF出力：～1500W
【特徴】
１．多波長同時測定による高速測定（世界最速）
２．測光方向は軸方向及び横方向に切り替え可能で、多波長同時マルチキャリブレーション機能により低濃度溶液から高濃度溶液を希釈なしで測定可能
３．元素の検出下限濃度ppbレベル以下
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
オスミウムコーター（TEM試料作製装置群）
- メーカー名
- 株式会社真空デバイス
- 型番
- HPC-1SW
- 仕様
- ・蒸着方式: 2極DCグロー放電スパッタ
・ターゲット: オスミウム
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 電子顕微鏡ユニット
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4]
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス(SHIBAURA MECHATRONICS)
- 型番
- CFS-4EP-LL
- 仕様
- 【性能・仕様】
・電源：DC×２、RF×１
・電源出力：500W（最大）
・カソード：φ3インチ×4式
・基板サイズ：最大8inchφ
・プロセスガス：Ar、O2、N2
・基板加熱：設定300℃
・逆スパッタ可
【特徴】
・DC及びRFスパッタ電源を備えていることにより、多様な材料に対応
・O2及びN2ガスの導入による反応性スパッタが可能
・異種ターゲットの同時使用による混合材料の堆積が可能
・レシピによる多層成膜の自動実行
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
LC-MS（Orbitrap Exploris 480）
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック
- 型番
- Orbitrap Exploris 480
- 仕様
- ・ 質量範囲：40～6,000 m/z
・ 質量分解能：480,000 at 200 m/z
・ 質量精度：3 ppm以下(外標準法)、1 ppm以下(内標準法)
・ スキャンモード：Full Scan、t-SIM、DDA TopN、DDA TopTime、DIA、BoxCar、t-MS2 (PRM)、AIF
・ 送液範囲：1 nL/min～100 µL/ min
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業9,900円/時間
- 中小企業16,500円/時間
- 大企業33,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- バイオ分析ユニット
分光エリプソメーター [UNECS-2000A]
- メーカー名
- アルバック
- 型番
- UNECS-2000A
- 仕様
- ・光源：ハロゲンランプ
・波長範囲：530～750 nm
・スポット径：1mm
・入射角：70°固定
・試料サイズ：最大φ200mm
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
低ダメージ精密エッチング装置 [Spica #2]
- メーカー名
- 住友精密工業(株)
- 型番
- Spica
- 仕様
- プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
プロセスガス:Cl2, BCl3, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃～30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
低ダメージ精密エッチング装置 [Spica #1]
- メーカー名
- 住友精密工業(株)
- 型番
- Spica
- 仕様
- プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
プロセスガス:CHF3, CF4, C4F8, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃～30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
"千現（つくば）"で検索した結果 162件