マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]

装置名称	マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
メーカー名	ナノシステムソリューションズ
型番	DL-1000 / NC2P
用途	・微細加工（リソグラフィ）・高速高精度マスクレスパターニング
仕様	・光源　405nm LD（h線）・照度：10W/cm2 ・位置決め精度：500nm以下・重ね合わせ精度：500nm以下・試料サイズ　最大8インチ角

利用時間単位	時間（1h）
機器利用料金（税抜金額）	大学・公的機関・スタートアップ企業 6,600円/時間中小企業 11,000円/時間大企業 22,000円/時間
利用可能形態	機器利用：○ 技術指導：○ 技術代行：○
マテリアル先端リサーチインフラの利用	○
問い合わせ先部署	微細加工ユニット
設置場所	並木地区 MANA棟

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国立研究開発法人 物質・材料研究機構