原子層堆積装置 [SUNALE R-150]
![原子層堆積装置 [SUNALE R-150]](data/facility_item/1562902099_2.jpg)
| 装置名称 | 原子層堆積装置 [SUNALE R-150] |
|---|---|
| メーカー名 | アルテック(株)/Picosun |
| 型番 | SUNALE R-150 ALD |
| 用途 | ・微細加工（成膜） |
| 仕様 | ・原料ソース：3源 ・基板サイズ：最大6inchφ ・基板温度：室温～300℃ |
| 利用時間単位 | 時間（1h） |
|---|---|
| 機器利用料金（税抜金額） |
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| 利用可能形態 |
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| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 並木地区 MANA棟 |
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