CCP-RIE装置 [RIE-200NL]

装置名称	CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
メーカー名	サムコ
型番	RIE-200NL
用途	・微細加工（エッチング）・多種材料のドライエッチング
仕様	・プラズマ励起方式　平行平板型・電源出力　最大300W ・プロセスガス　CHF3，CF4，SF6，Ar，O2，N2 ・試料ステージ温度　室温・試料サイズ　最大φ8インチ

利用時間単位	時間（1h）
機器利用料金（税抜金額）	大学・公的機関・スタートアップ企業 3,300円/時間中小企業 5,500円/時間大企業 11,000円/時間
利用可能形態	機器利用：○ 技術指導：○ 技術代行：○
マテリアル先端リサーチインフラの利用	○
問い合わせ先部署	微細加工ユニット
設置場所	並木地区 MANA棟

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国立研究開発法人 物質・材料研究機構