ICP-RIE装置 [RV-APS-SE]
装置名称 | ICP-RIE装置 [RV-APS-SE] |
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メーカー名 | 住友精密工業 |
型番 | MUC-21 RV-APS-SE |
用途 | ・微細加工(エッチング) ・SiC,SiN,SiO2や各種酸化膜の高速エッチング |
仕様 | ・プラズマ励起方式 誘導結合型 ・電源出力 ICP出力:最大3kW/バイアス出力:最大1kW ・プロセスガス:CHF3,CF4,C4F8,SF6,Ar,O2,He ・試料ステージ温度 -10~+40度 ・試料サイズ 最大φ4インチ ・その他 SiO2エッチングレート:0.5um/min以上,終点検出機能装備 |
利用時間単位 | 時間(1h) |
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機器利用料金(税抜金額) |
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利用可能形態 |
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マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
設置場所 | 千現地区 材料信頼性実験棟1F |
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