赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]
装置名称 | 赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1] |
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メーカー名 | アドバンス理工株式会社 |
型番 | RTP-6 |
用途 | ・微細加工(熱処理) |
仕様 | ・温度範囲:室温~1000℃ ・加熱方式:赤外ゴールドイメージ炉、9ゾーン制御 ・加熱性能:最大 10℃/s ・プロセスガス:N2, Ar+H2(3%), Ar, O2, 真空置換機能あり ・試料台材質・サイズ:SiCコートグラファイト、6インチφ |
利用時間単位 | 時間(1h) |
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機器利用料金(税抜金額) |
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利用可能形態 |
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マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
設置場所 | 並木地区 MANA棟 |
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