原子層堆積装置 [AD-230LP]

装置名称	原子層堆積装置 [AD-230LP]
メーカー名	サムコ株式会社
型番	AD-230LP
用途	絶縁膜・パッシベーション膜形成
仕様	成膜方式：Thermal ALD, Plasma ALD 原料：TMA, TDMAT, BDEAS, 他酸化膜：H₂O, O₃, O₂ 窒化膜：N₂, NH₃ 試料サイズ：最大φ8インチその他：ロードロック式

利用時間単位	時間（1h）
機器利用料金（税抜金額）	大学・公的機関・スタートアップ企業 3,300円/時間中小企業 5,500円/時間大企業 11,000円/時間
利用可能形態	機器利用：○ 技術指導：○ 技術代行：○
マテリアル先端リサーチインフラの利用	○
問い合わせ先部署	微細加工ユニット
設置場所	千現地区材料信頼性実験棟1F

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国立研究開発法人 物質・材料研究機構