TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置(Ethos NX5000)
装置名称 | TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置(Ethos NX5000) |
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メーカー名 | 株式会社日立ハイテク |
型番 | Ethos NX5000 |
用途 | 半導体・セラミックス等のTEM試料作製 |
仕様 | 1. FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5-30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA 2. SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1-30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA 3. 低加速Arイオンビーム:加速電圧0.5-2kV、最大ビーム電流20nA |
利用時間単位 | 時間(1h) |
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機器利用料金(税抜金額) |
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利用可能形態 |
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マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
問い合わせ先部署 | 電子顕微鏡ユニット |
設置場所 | 並木地区 無振動特殊実験棟107号室 |
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