SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]

装置名称	SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]
メーカー名	サムコ株式会社
型番	PD-220NL
用途	・微細加工（成膜）・高品質SiO2薄膜形成
仕様	・プラズマ方式：平行平板型・電源出力：30-300W ・原料：TEOS (SiO2) ・成膜温度：400度以下・試料サイズ：最大φ8インチ

利用時間単位	時間（1h）
機器利用料金（税抜金額）	大学・公的機関・スタートアップ企業 3,300円/時間中小企業 5,500円/時間大企業 11,000円/時間
利用可能形態	機器利用：○ 技術指導：○ 技術代行：○
マテリアル先端リサーチインフラの利用	○
問い合わせ先部署	微細加工ユニット
設置場所	千現地区材料信頼性実験棟1F

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国立研究開発法人 物質・材料研究機構