赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]

装置名称	赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]
メーカー名	アドバンス理工株式会社
型番	RTP-6
用途	小片～φ6インチの急速アニール
仕様	加熱方式：放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式プロセス温度：1100℃以下昇温速度：10℃/秒以下プロセスガス：O2, N2, Ar+H2(3%) 試料サイズ：最大φ6インチ

利用時間単位	時間(1h)
機器利用料金（税抜金額）	大学・公的機関・スタートアップ企業 3,300円/時間中小企業 5,500円/時間大企業 11,000円/時間
利用可能形態	機器利用：○ 技術指導：○ 技術代行：○
マテリアル先端リサーチインフラの利用	○
問い合わせ先部署	微細加工ユニット
設置場所	千現地区材料信頼性実験棟1F

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国立研究開発法人 物質・材料研究機構