マスクレス露光装置 [MLA150]

装置名称	マスクレス露光装置 [MLA150]
メーカー名	ハイデルベルグ・インストルメンツ
型番	MLA150
用途	半導体デバイスプロセスにおけるリソグラフィ工程
仕様	露光方式:DMD 光源:375nm半導体レーザー解像度:1um 位置決め精度:0.5um以下重ね合わせ精度:0.5um以下最大試料サイズ:8インチ角

利用時間単位	時間(1h)
機器利用料金（税抜金額）	大学・公的機関・スタートアップ企業 6,600円/時間中小企業 11,000円/時間大企業 22,000円/時間
利用可能形態	機器利用：○ 技術指導：○ 技術代行：○
マテリアル先端リサーチインフラの利用	○
問い合わせ先部署	微細加工ユニット
設置場所	千現地区材料信頼性実験棟1F

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国立研究開発法人 物質・材料研究機構