電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]

装置名称	電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]
メーカー名	アールデック(R-DEC)
型番	ADS-E810
用途	薄膜形成 Thin Film Deposition
仕様	【性能・仕様】・蒸着方式：電子銃型・ターゲット：Al, Ti, Ni, AuGe, Pt, Au, Pd, Ag, Cr, 他・到達真空度：10-5 Pa ・ＴＳ間距離：500 mm ・最大試料サイズ：φ8inch ・その他：ロードロック式、水冷式試料ステージ【特徴】・ロードロックによる迅速なプロセス・最大10種類の材料を積層可能・レシピによる多層成膜の自動実行・基板冷却機構・反射電子トラップ機構

利用時間単位	時間（1h）
機器利用料金（税抜金額）	大学・公的機関・スタートアップ企業 3,300円/時間中小企業 5,500円/時間大企業 11,000円/時間
利用可能形態	機器利用：○ 技術指導：○ 技術代行：○
マテリアル先端リサーチインフラの利用	○
問い合わせ先部署	微細加工ユニット
設置場所	並木地区 MANA棟

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国立研究開発法人物質・材料研究機構