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レーザー描画装置 [DWL66+]
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ HEIDELBERG INSTRUMENT
- 型番
- DWL66+
- 仕様
- ・光源：375nm 半導体レーザー (70mW)
・描画モード：ラスタースキャン描画、ベクターモード描画
・解像モード：0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm
・最大試料サイズ：8インチ角
・その他：グレースケール描画、重ね合わせ描画
【特徴】・高解像度フォトリソグラフィ ・高精細グレースケール描画
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクレス露光装置 [DL-1000]
- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ
- 型番
- DL-1000
- 仕様
- ・光源 405nm半導体レーザー（h線）
・照度 300mW/cm2
・位置決め精度 ±1um以下
・重ね合わせ精度 ±1um以下
・試料サイズ 最大4インチ角
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ
- 型番
- DL-1000 / NC2P
- 仕様
- ・光源 405nm LD（h線）
・照度：10W/cm2
・位置決め精度：500nm以下
・重ね合わせ精度：500nm以下
・試料サイズ 最大8インチ角
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクレス露光装置 [MLA150]
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ
- 型番
- MLA150
- 仕様
- 露光方式:DMD
光源:375nm半導体レーザー
解像度:1um
位置決め精度:0.5um以下
重ね合わせ精度:0.5um以下
最大試料サイズ:8インチ角
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクアライナー [MA-6]
- メーカー名
- ズース・マイクロテック
- 型番
- MA-6
- 仕様
- ・光源：i線、h線、g線
・マスク寸法：102mm角～152mm角
・基板寸法：76mm径以下
・露光最小線幅：0.75µm
・位置決め精度：0.5µm(表面側)
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]
- メーカー名
- サムコ株式会社
- 型番
- AQ-500
- 仕様
- ・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O,O2
・自動運転プログラム
・試料サイズ：最大φ8インチ
・水蒸気プラズマによる還元、洗浄、樹脂接合、親水化処理が可能
・酸素ガスを添加することにより、還元雰囲気でのアッシングが可能
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]
- メーカー名
- サムコ
- 型番
- AQ-500
- 仕様
- ・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O, O2
・自動運転プログラム
・試料サイズ：最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
UVオゾンクリーナー [UV-1]
- メーカー名
- サムコ
- 型番
- UV-1
- 仕様
- ・光源：紫外線ランプ（184.9nm＆253.7nm）
・ステージ温度：室温～300℃
・試料サイズ：最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
スパッタ装置 [JSP-8000]
- メーカー名
- (株)アルバック
- 型番
- J sputter
- 仕様
- ・スパッタ方式 DC/RFマグネトロンスパッタ，反応性／3元同時／逆スパッタ可能
・電源出力 最大500W
・カソード φ4インチ×4式
・プロセスガス Ar，O2，N2
・試料サイズ 最大φ6インチ：試料ステージ水冷／加熱可 （最大300度）
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #2]
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス
- 型番
- CFS-4EP-LL
- 仕様
- ・電源：DC×2、RF×1
・基板サイズ：最大6inchφ
・プロセスガス：Ar、O2、N2
・基板加熱：設定300℃
・逆スパッタ可
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
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