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スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #3]
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス
- 型番
- CFS-4EP-LL
- 仕様
- ・スパッタ方式:DC/RFマグネトロンスパッタ,反応性/2元同時/逆スパッタ/バイアススパッタ可能
・電源出力:最大500W
・カソード:φ3インチ×4式
・プロセスガス:Ar,O2,N2
・試料サイズ:最大φ8インチ(水冷ステージ)
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K]
- メーカー名
- アールデック
- 型番
- RDEB-1206K
- 仕様
- ・蒸着方式 電子銃型×1式
・到達真空度 1.0e-5 Pa
・TS間距離 500mm
・試料サイズ 最大φ6インチ
・その他 水冷式試料ステージ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子銃型蒸着装置 [ADS-E86]
- メーカー名
- 株式会社アールデック
- 型番
- ADS-E86
- 仕様
- 蒸着方式:電子銃型
ターゲット:Ti, Cr, Au, Al, Ni, Pt, 他
到達真空度:10-5Pa台
TS間距離:500mm
試料サイズ:最大φ8インチ
その他:ロードロック式自動蒸着、水冷式資料ステージ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
- メーカー名
- エイコーエンジニアリング
- 型番
- ー
- 仕様
- ・蒸発源:材料ハース10個
・T-S距離:700mm
・基板サイズ:最大φ6インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
原子層堆積装置 [SUNALE R-150]
- メーカー名
- アルテック(株)/Picosun
- 型番
- SUNALE R-150 ALD
- 仕様
- ・原料ソース:3源
・基板サイズ:最大6inchφ
・基板温度:室温~300℃
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
原子層堆積装置 [AD-230LP]
- メーカー名
- サムコ株式会社
- 型番
- AD-230LP
- 仕様
- 成膜方式:Thermal ALD, Plasma ALD
原料:TMA, TDMAT, BDEAS, 他
酸化膜:H2O, O3, O2
窒化膜:N2, NH3
試料サイズ:最大φ8インチ
その他:ロードロック式
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]
- メーカー名
- サムコ株式会社
- 型番
- PD-220NL
- 仕様
- ・プラズマ方式:平行平板型
・電源出力:30-300W
・原料:TEOS (SiO2)
・成膜温度:400度以下
・試料サイズ:最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
SiNプラズマCVD装置 [PD-220NL]
- メーカー名
- サムコ
- 型番
- PD-220NL
- 仕様
- ・プラズマ方式 平行平板型
・電源出力 30-300W
・原料:TEOS (SiO2), SN-2 (SiN)
・成膜温度 400度以下
・試料サイズ 最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
リフトオフ装置 [KLO-150CBU]
- メーカー名
- カナメックス
- 型番
- KLO-150CBU
- 仕様
- ・レジスト膨潤 80℃ NMP溶液
・レジスト剥離 高圧ジェットNMP溶液
・リンス IPA, 純水
・乾燥 スピン乾燥、N2ブロー
・試料サイズ 最大φ6インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
- メーカー名
- サムコ
- 型番
- RIE-200NL
- 仕様
- ・プラズマ励起方式 平行平板型
・電源出力 最大300W
・プロセスガス CHF3,CF4,SF6,Ar,O2,N2
・試料ステージ温度 室温
・試料サイズ 最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
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