上期（5月～9月）に開催されるユーザースクールへの申し込みについてはこちらをご確認ください。

• 2019年度ユーザースクールプログラム一覧(上期：5月～9月)
• No.1 X線回折
• No.2 ICP発光分光分析
• No.3 TOF-SIMS/XPS
• No.4 SEM＋EDS
• No.5 透過型電子顕微鏡法
• No.6 ローレンツ電子顕微鏡
• No.7 マイクロフォーカスX線CT
• No.8 走査型トンネル顕微鏡
• No.9 走査型プローブ顕微鏡
• No.10 ガス吸着分析
• No.11 EB描画
• No.12 マスクレス露光
• No.13 薄膜形成プロセス（蒸着／スパッタ成膜）
• No.14 薄膜形成プロセス（CVD／ALD成膜）
• No.15 LC-MS/MS
• No.16 細胞の観察と計測
• No.17 遺伝子発現定量

下期（10月～3月）に開催されるユーザースクールへの申し込みについてはこちらをご確認ください。

• 2019年度ユーザースクールプログラム一覧(下期：10月～3月)
• No.1 X線回折
• No.2 ICP発光分光分析
• No.3 TOF-SIMS/XPS
• No.4 SEM＋EDS
• No.5 透過型電子顕微鏡法
• No.6 ローレンツ電子顕微鏡
• No.7 マイクロフォーカスX線CT
• No.8 走査型トンネル顕微鏡
• No.9 走査型プローブ顕微鏡
• No.10 ガス吸着分析
• No.11 EB描画
• No.12 マスクレス露光
• No.13 薄膜形成プロセス（蒸着／スパッタ成膜）
• No.14 薄膜形成プロセス（CVD／ALD成膜）
• No.15 LC-MS/MS
• No.16 細胞の観察と計測
• No.17 遺伝子発現定量

• 平成30年度ユーザースクールプログラム一覧
• No.1 X線回折
• No.2 ICP発光分光分析
• No.3 TOF-SIMS/XPS
• No.4 SEM＋EDS
• No.5 ローレンツ電子顕微鏡
• No.6 透過型電子顕微鏡による材料解析基礎と応用
• No.7 スピン偏極低エネルギー電子顕微鏡
• No.8 走査型プローブ顕微鏡
• No.9 ガス吸着分析
• No.10 EB描画（基礎）
• No.11 EB描画（応用）
• No.12 マスクレス露光（基礎）
• No.13 マスクレス露光（応用）
• No.14 LC-MS/MS
• No.15 細胞の観察と計測
• No.16 遺伝子発現定量

• 平成29年度ユーザースクールプログラム一覧
• No.1　X線回析装置
• No.2　ICP発光分光分析
• No.3　TOF-SIMS/XPS
• No.4　SEM＋EDS
• No.5　TEMによる材料解析
• No.6　ローレンツTEM
• No.7　Heイオン顕微鏡
• No.8　三次元マルチスケール解析装置
• No.9　マイクロフォーカスX線CT
• No.10　EB描画（基礎）
• No.11　EB描画（応用）
• No.12　マスクレス露光（基礎）
• No.13　マスクレス露光（応用）
• No.14　細胞への遺伝子導入
• No.15　DLSとゼータ電位計
• No.16　遺伝子発現の定量測定
• No.17　細胞培養
• No.18　低真空SEM
• No.19　細胞の蛍光観察
• No.20　LC-MS/MS